三次元アークイオンプレーティング装置(イオン工学研究所)

by(９７年度、小林寛明)

金属の陰極材料をアーク放電により気化し、アークプラズマによりイオン化する。基板に負の電圧を印加し、チャンバー内に反応ガスを導入してイオン化した金属と反応ガスにより成膜を行う。特徴として、成膜した膜中に不純物が入りにくく、イオン化率が高いので良質の膜を作成できる事、成長速度が速い、などが挙げられる。